• Описание разработки: Пористая вставка из оксинитрида титана используется в планшайбах в качестве вакуумной присоски для удержания кремниевых полупроводниковых пластин при их шлифовании.

  • Технические преимущества: Позволяют повысить выход годной продукции (кремниевых пластин) за счет отсутствия склонности пористой поверхности вакуумной планшайбы к прилипанию, обеспечиваемой выбором оптимального размера пор и проницаемости, что позволит решить проблему бездефектного закрепления и надежного удерживания кремниевых пластин толщиной 100 мкм и менее в процессе их обработки на планшайбах предметных столов, производить их съем роботом-манипулятором, сводя при этом вероятность поломки пластин практически к нулю.

    Патентная чистота: Патенты РБ.