Для реализации процесса ионно-лучевого нанесения композиционного покрытия используется ионный источник, разработанный на базе торцевого холловского ускорителя осесимметричной конструкции с разрядом в скрещенных E x H полях, который может формировать два независимых ионных пучка кольцевой геометрии. Один из них используется для распыления мишени, другой – для предварительной обработки (ионной очистки и активации) поверхности подложки перед нанесением покрытия. В качестве рабочего газа для распыления композиционной мишени использован аргон.
Рабочее место нанесения функциональных покрытий
для выполнения операции «Нанесение твердосмазочного покрытия на основе MoS2методом ионно-лучевого распыления на детали из нержавеющей стали и бронзы»
Документация:
Технологический процесс ИСПФ 01171.02 321
Наименование средств технологического оснащения (оборудование, приборы, оснастка, инструмент) |
К-во, шт |
Установка вакуумного напыления ННВ 6.6.И1 |
1 |
Двухлучевой ионный источник ИРЛУ-2 |
1 |
Блок питания двухлучевого ионного распылительного источника – БП 94 |
1 |
Установка ультразвуковая УЗУ-025 |
1 |
Пылесос бытовой |
1 |
Стол оператора |
1 |
а) б)
в) г)
а) × 50000; б) × 100000; в) × 100000; г) × 70000
а, б) исходная поверхность; в, г) поверхность после травления
а)
Микроструктура поверхности ионно-лучевого покрытия, полученного
распылением мишени состава (50% Со + 50% MoS2):
б)
а) морфология поверхности; б) концентрационные кривые распределения
(красный – S, синий – Mo, зеленый – Co)
Морфология поверхности ионно-лучевого покрытия на основе Со с добавкой 50 % MoS2 в мишень для распыления с данными микрорентгеноспектрального анализа
Рабочее место нанесения многослойных покрытий
Оборудование и программное обеспечение
Доработка вакуумной камеры для нанесения многослойных покрытий
а) б)
в) г)
а) х10000; б) х25000; в) х100000; г) х50000
Структура покрытия, осажденного на разогретую до 200 °С подложку